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奧林巴斯顯微鏡:什麽是掃描近場光學顯微鏡(SNOM)

2013-10-16  發布者:admin 

在衍射極限的光學顯微鏡的一個基本原則要求的空間分辨率的圖像的入射光的波長,並通過聚光鏡和物鏡係統的數值孔徑是有限的。發展近場掃描光學顯微鏡(NSOM),也經常被稱為掃描近場光學顯微鏡(SNOM),一直需要一種成像技術,實現空間的同時,保留了光學顯微鏡的方法所帶來的各種對比機製驅動超越了經典的光學衍射極限的分辨率。

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掃描近場光學顯微鏡分類之間更廣泛的器樂組統稱為掃描探針顯微鏡(SPMS)。所有的SPM欠他們的存在,掃描隧道顯微鏡(STM),這是由IBM研究科學家格爾德Binnig和海因裏希羅勒的發明,在20世紀80年代初的發展

傳統的光學成像的方法(200至300納米的可見光)的理論分辨率極限是激勵最近的更高分辨率的掃描探針技術,如STM和原子力顯微鏡(AFM的發展的首要因素,以前,透射型電子顯微鏡(TEM)和掃描電子顯微鏡(SEM)。這些和相關的技術已啟動,顯著提高的分辨率,甚至到了可視化的單個原子的水平。然而,近場掃描光學方法的發展之前,優異的分辨能力所遇到的各種各樣的對比度增強機製的光學顯微鏡可在犧牲。此外,對於大多數高分辨方法極端的試樣的製備要求限製了它們的應用在許多領域的研究,特別是在生物調查涉及動態或在體外測量。近場掃描光學顯微鏡的方法,結合了非常高的地形分辨率具有顯著的時間分辨率,偏振特性,光譜能力,靈敏度,和靈活性所固有的許多形式的光學顯微鏡技術如原子力顯微鏡。

一個對象,如顯微鏡標本,結果產生的近場和遠場光分量的光的相互作用。遠場光通過空間傳播在非限製的方式,是用於傳統的顯微鏡中的“正常”的光。近場(或瞬逝)的光由一個非傳播的對象的距離小於一個單一波長的光的表麵附近存在的字段。在近場光進行更多的高頻信息,並有其最大的振幅在全區範圍內對樣品表麵的第一幾十納米。由於近場光,呈指數衰減小於光的波長的距離內,它通常在不知不覺中。實際上,作為光從表麵到遠場區域向外傳播,頻率最高的空間信息過濾掉,並征收眾所周知的基於衍射的阿貝極限分辨率。通過檢測和利用近場光進行衍射之前,的NSOM使整個色域的遠場光學對比度更高的空間分辨率的增強機製。除了 ​​非衍射極限的高分辨率光學成像,近場光學技術可應用於化學和結構特性,通過光譜分析在下方100納米的決議。

最近期的商業近場光學儀器結合的AFM掃描技術與傳統光學顯微鏡的光學檢測能力。整體的近場光學設計可以顯著不同,這取決於特定的研究項目的要求。其中最常見的配置是把成倒置熒光顯微鏡的近場光學。根據近場光學顯微鏡在傳統的光學儀器,許多熟悉的光學顯微鏡的成像模式,結合近場高分辨率能力。在近場光學顯微鏡的光信息,可以生成地形或從樣品中相同的方式作為原子力顯微鏡的力數據。的兩個單獨的數據集(光學和地形),然後可以比較,以確定的物理結構之間的相關性和光學對比度。近場光學技術的真正威力,盡可在這個獨特的能力,結合地形設置在分辨率遠遠優於專注光的衍射限製下的相應的光學數據的各種數據。

圖1中顯示的是圍繞一個現代的倒置光學顯微鏡的近場掃描儀器,其被配置。這樣的安排允許方便的近場光學頭,將探針與它的定位機構,將被安裝於樣品載物台的位置,與位於下方的載物台物鏡。在圖中所示的係統包括一個外部的激光來提供照明,光電倍增管檢測器的光信號的集合,以及計算機和電子控製試樣和探頭的定位和圖像采集單元,用於管理。

雖然掃描探針顯微鏡係列包括浩大的專業化和高度多樣化的工具,他們共同經營的動機是就業的本地探頭密切的互動與試樣。一個典型的SPM局部探頭配有納米尺寸的尖端,其前端與標本之間的相互作用可以被檢測和記錄,可通過多種機製。SPM的每個不同類型的特定屬性,其特征在於本地探頭與試樣表麵的相互作用的性質。

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典型的近場光學成像方法的一種表示在圖2中被保持在試樣表麵的近場中的孔具有直徑小於光的波長的照明探針。因為接近或標本和探針(分離小於波長)之間的接觸是一個普遍的要求非衍射極限分辨率,所有的SPM絕大多數需要一個反饋係統,精確控製的探針和樣品的物理分離。此外,一個xyz的掃描器(通常是壓電體)用於控製在試樣探針的運動。所示的近場光學配置,以傳統的方式,在圖2中的位置的遠場中的物鏡的圖像形成的光信號的收集。

根據不同的特定儀器的設計,可以附加的xyz掃描儀在試樣或本地探頭。如果掃描儀和試樣耦合,則試樣移動柵格圖案下的固定的探針針尖的前端試樣相互作用產生的信號以生成圖像。成像區域的大小隻依賴於掃描儀可以產生的最大位移。一種計算機同時評估探針位置,將得到的反饋係統中的數據,並控製掃描的前端(或樣品)的前端和試樣表麵的分離。作為檢測探針和試樣之間的相互作用的結果所產生的信息收集和記錄由計算機逐點的光柵運動期間。然後,計算機將這些數據轉換成兩維數據集(線)。

二維數據集收集的近場光學儀器,其後編譯,並在計算機顯示器上顯示為一個三維的重建。用掃描探針顯微鏡測量的功能的典型的規模範圍從原子水平上(小於1納米)到大於100微米。掃描探針顯微鏡係列包括基於磁力方式,電力,電化學相互作用,機械相互作用,電容,離子電導,霍爾係數,熱性能,光學性能(例如近場光學顯微鏡)。近場光學圖像通常是通過掃描在試樣在一個二維的柵格圖案的亞波長孔徑和收集所發射的輻射的光的遠場,點按點生成。

 

以前開發的高解析度的技術,如掃描電子顯微鏡,透射電子顯微鏡,掃描隧道顯微鏡,原子力顯微鏡,沒有可使用的各種各樣的光學顯微鏡可對比機製,並在大多數情況下,不限於僅試樣表麵的研究。除了從可用的對比度增強技術染色,熒光偏振,相位相反,和微分幹涉對比,光學方法具有固有的光譜和時間分辨能力。

高分辨率的電子顯微技術所提供的成本實現在較大的局限性上可接受的試樣類型和樣品製備的要求,其中包括真空兼容性要求,透射電鏡超薄切片的製備,一般增加,導電塗層的應用對於非導電試樣(STM也有此要求)。對於生物材料,試樣的製備要求特別高,完全脫水前一般需要進行切片或塗層。雖然原子力顯微鏡不受許多這些試樣製備的考慮,並且可以被應用到附近的環境條件下在原子水平上研究標本的方法,該方法不容易提供從試樣的光譜信息。另外一個限製是,原子力顯微鏡是不能充分利用廣泛的記者染料熒光顯微鏡。

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近場光學方法是特別有用的納米技術專家(物理學家,材料科學家,化學家和生物學家)誰需要從他們不同的學科中遇到的材料廣泛的超高分辨率空間信息。雖然新的近場儀器技術正在開發的三維圖像卷集,近場光學顯微鏡通常被限製的標本,可以由當地的探頭,它是物理上連接到一個宏觀的掃描頭。

在圖3中示出的控製和信息流的一個倒置的光學顯微鏡為基礎的近場光學係統的示意圖。激光激發源被耦合到一個光纖探頭的標本照明,與探頭端部的運動集中的前端裝有第二激光通過光學的反饋回路被監視。通過額外的電子設備和係統的計算機控製的探針,平移階段運動,采集和顯示的光學和地形(或其他力)圖像的運動。

近場光學顯微鏡的曆史

愛德華·辛格,開始於1928年,發表了一係列的文章,首先概念化的想法,超高分辨率光學顯微鏡。辛格的建議了一個新的不同的光學顯微鏡,將繞過的衍射極限,但需要製造一個10納米的孔徑(遠小於光的波長)在一個不透明的屏幕。將研磨甲染色和嵌入的試樣光學平麵,並在接近光圈掃描。在掃描的同時,將密閉的光照射一側的屏幕和通過孔的孔徑的尺寸,可以用來照亮前樣品進行衍射。隻要試樣保持以內的距離小於開口直徑的,可產生的圖像,其分辨率為10納米。此外,辛格準確地概括了一些技術上的困難,建設一個近場顯微鏡將提出。包括在這些分鍾孔徑的製造,實現了足夠強的光源,在納米尺度的試樣定位,並保持試樣中的孔靠近的挑戰。這項提案,但有遠見的和簡單的概念,遠遠超出了技術能力的時間。

辛格的建議的可行性的實驗驗證必須等待,直到1972年,當EA火山灰和G. Nicholls的顯示分辨率近場掃描顯微鏡工作在微波波段的電磁波譜(圖4中示出)的副波長光圈。利用微波爐,用波長為3厘米,通過一個探針形成的孔徑為1.5毫米,具有周期性的線要素的金屬光柵掃描探頭。無論是0.5毫米的光柵線和0.5毫米的間隙很容易解析,證明具有約一60(0.017)期間的成像波長的子波長分辨率。

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辛格的概念擴展到在可見光譜中波長較短呈現顯著更大的技術挑戰,(孔徑製造和定位的),這都沒有克服,直到1984年時,IBM公司的蘇黎世實驗室一個研究組報道的光學測量subdiffraction分辨率級別。在康奈爾大學一個獨立的工作組采取略有不同的方法來克服的技術障礙近場成像,在可見光波段,兩組的業績開始發展,導致了目前的近場光學儀器。IBM的研究人員采用的金屬塗層的石英晶體探頭光圈在尖端製造,並指定技術,掃描近場光學顯微鏡(SNOM)。康奈集團使用電子束光刻創建孔徑小於50納米矽和金屬。IBM的團隊能要求最高的光學分辨率(日)25納米或488納米的輻射波長的二十分之一,利用試樣組成的細金屬線光柵。

雖然在可見光波長實現非衍射極限的成像展示了近場孔徑掃描方法的技術可行性,但直到1992年以後,近場光學顯微鏡開始演變為一個科學的有用工具。這種提前實用可主要歸因剪切力反饋係統的發展和就業,這兩個被改編為近場技術由Eric Betzig工作時的單模光纖作為近場光學顯微鏡探針AT&T貝爾實驗室。

近場光學儀器

的孔掃描近場光學儀器,在近場中的點擴散函數的定量可以評估由高斯分布,其強度值的1 / e的近場光學顯微鏡探針的尖端處的半徑的孔的相同的順序。主要是瞬逝(平行於試樣表麵)時的照明源的半徑小於三分之一的成像光的波長的光的傳播模式。為了實現大於衍射極限(常規光學顯微鏡的分辨率極限)的光學拆分中,探針針尖必須使這個近場區域內。近場光學顯微鏡,探針和樣品表麵之間的分離距離通常為幾納米的量級。源附近的輻射的近場區域內高度準直的,但幾個波長的傳播距離從檢體後,輻射經曆顯著的衍射,並進入遠場製度。

 

有兩個根本的差異之間的近場和遠場光學顯微術(常規)試樣被照亮的區域的大小,與輻射源和試樣之間的間隔距離。在傳統的遠場光學顯微鏡中,光源與試樣之間的距離通常是遠遠大於入射光的波長,而在近場光學顯微鏡中,該技術的一個必要條件是,照明源更接近試樣比照射輻射的波長。

XYZ掃描

所有掃描探針顯微技術在心髒掃描係統。它的設計和功能,掃描分辨率達到的主要決定因素。掃描儀必須具有低噪聲(小倉位波動)和精密定位能力(通常小於1納米)。探頭定位的精度要求,通常需要整個隔振表儀器上休息,或暫停通過其他一些手段,來消除從建設到儀器的機械振動傳遞。低噪聲的電子和高電壓的放大器,具有大的動態範圍是必要的驅動壓電致動器的探針和試樣定位係統。壓電體通常需要電源提供0到+150或-150至+150伏全方位位移。

對於大多數近場光學的應用程序,它是既要保持恒定的反饋探頭在上述被成像在試樣表麵。探頭的精確控製是必要的,因為它必須保持在狹窄的近場區域中,但防止從實際的表麵接觸。探頭和被檢體之間保持恒定的間隙最好地滿足嚴格的要求,通過采用一個實時的反饋控製係統。這種類型的位置控製的優點是多方麵的。也許最重要的考慮是到探頭端部或檢體,如果這兩個接觸到,這很可能損壞。此外,它有可能為積累的前端被掃描,如果接觸是在試樣表麵的碎屑。盡管不太可能,該工件可以發生,即使在反饋控製下的前端,特別是,如果不正確地選擇反饋設置點。

具有反饋控製的操作探頭掃描係統的另一個好處是取得精確的光信號電平,消除了戲劇性的變化引起的指數上的針尖對樣品分離這些信號的依賴。的指數變化的信號電平不斷變化的探針與試樣分離可產生偽影圖像中的不準確地表示有關標本的光學信息。的近場技術的一個關鍵要求是,探頭端部必須被定位並持有在幾納米的表麵,以獲得高分辨率和無偽像的光學圖像,這是不容易實現的,而不利用某種形式的反饋機製。

已經采用幾種不同的技術來監測探頭端部的z位置,它的瞬時分離從樣品表麵。這些方法包括:

  • 尖端振幅的幹涉測量法,使用一個雙光束幹涉儀或光纖幹涉儀。
  • 電子隧穿(有限導電標本)。
  • 檢測發射的光通過的前端(無論是在傳輸或收集模式)和光子隧道。
  • 恒定的力(原子力反饋)是最常見的方法,並且還可以進一步細分為:
    1. 一個單獨的光源尖端的衍射。

    2. 機械傳感器連接到的前端(例如,石英音叉)。

  • 電容檢測。

到今天為止,兩個最常用的尖端定位機製已被監視的前端振動振幅(通常幹涉),和非光學音叉技術的光學方法。這兩種版本的剪切力反饋方法,並在下麵的一節中更詳細地描述。

振動反饋的方法

為了提高反饋信號的信號噪聲比,近場光學頭,幾乎總是在探頭的共振頻率振動。這允許鎖定檢測技術(基本上設置在參考振蕩頻率的中心頻率的帶通濾波器)的情況下予以確認,從而消除了與低頻噪聲和漂移的位置檢測的問題。振蕩小費接近試樣的前端和試樣之間的力受潮的前端振蕩的振幅。

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機械振蕩器(或電)質量的度量,給出了一個無量綱參數,稱為品質因數Q因子,或幹脆Q的品質因數被定義為振蕩器的諧振頻率除以它的共振寬度。它通常是有利於最大限度地提高探頭振蕩 Q值 ,以實現更高的穩定性和更敏感的前端高度調節。振蕩探針 Q值降低 ,較低的信號噪聲比,這導致相對較低的質量而得到的地形信息,從振蕩的反饋機製。從曆史上看,字母Q已被用來表示電阻電路元件的電抗比。振蕩器的特性方麵,術語“品質因數”被引入後的符號Q是任意選擇的。

通常情況下,這兩個共振峰值和Q -因子的發現改變探頭尖端的方法後,試樣表麵。可以監視通過幾種不同的技術,這些信息通常可歸類於兩組的前端振蕩的幅度和頻率。剪切力模式采用橫向擺動的前端和試樣(平行於表麵)在成像過程中控製的前端試樣的間隙之間產生的剪切力。與此相反,輕敲模式依賴於原子力過程中發生的前端垂直於試樣表麵的振蕩(原子力顯微鏡),以產生尖端控製的反饋信號。每個振蕩模式具有一些優點和缺點。

剪切力反饋

的剪切力反饋方法橫向抖動的機械共振頻率,在接近試樣表麵的探針針尖。的抖動幅度通常是保持低(小於10納米),以防止產生不利影響的光學分辨率。為了獲得最佳的圖像質量,剪切力反饋技術通常限製使用的標本,具有相對較低的表麵起伏,並需要較長的掃描時間相比輕敲模式中的操作。然而,在剪切力反饋技術通常采用直探頭容易製作,擁有更低的成本,每個探頭比彎探針。

對於光吞吐量,直探頭具有決定的優勢彎探針,參展的傳播強度低得多的損失。然而,剪切力成像用直探頭,通常是非常困難的,以在液體介質中進行,因為附加的流體的粘性阻尼引起的探針的振幅急劇減少。在典型的操作中,振蕩探頭接近試樣表麵,振幅,相位,頻率的振蕩每一個變化,由於耗散和絕熱力出席探頭的尖端。探頭振蕩阻尼由於尖標本互動非線性增加隨著尖標本分離。

負責標本的方法在近場探頭尖端振蕩阻尼的剪切力的性質,是許多研究興趣的主題。一組偵查員使用電子隧穿電流測量值之間的金屬NSOM探針和樣品,在剪切力反饋模式,總結探測實際接觸的表麵進近過程中的振蕩周期。隧穿電流的測量,如針尖接近標本,表明針尖接觸試樣最初作為探針進入反饋和繼續輕輕觸摸表麵,每一次振蕩周期。從這些信息中,很顯然,最有利的方法是使反饋的設定點盡可能高,以降低探頭和被檢體之間的物理相互作用(例如,約99.9%的原來的無阻尼信號)。在實踐中,反饋的上限設定點確定的反饋信號的信號 - 噪聲比。

監控的前端振動振幅的光反饋的方法是最常用的早期發育過程中的剪切力技術在近場光學顯微鏡的輕敲模式中也可以應用。在這種方法中,無論是直的或彎曲的探頭類型,緊密聚焦的激光NSOM探針的端部盡可能接近。隨著直探頭變異,當激光照射下,影子投由探頭到分割光電二極管。在彎曲探針法的情況下,激光被反射,從探頭的頂表麵分割光電二極管(類似的原子力顯微鏡中的光反饋技術)。探頭的與建立激光反饋,然後在任一輕敲模式或剪切力模式振動,在一個已知的頻率下,利用抖動壓電(參見圖7)。分割光電二極管收集的激光,並從檢測器的每一側的信號之間的差異來確定。使用鎖定放大器選擇的信號,即是在相同的頻率作為抖動壓電驅動信號的部分,可以通過以下方式獲得較高的信號-噪聲比。

 

與此不同的反饋機製的主要問題在於,光源(例如,激光),這是用於檢測的前端振動頻率,相位和振幅,成為雜散光子可幹擾的潛在來源近場光學信號的檢測。處理這種有效的背景信號增加的機製之一是提供一個反饋光源具有不同的波長比近場源(通常較長)。此方案需要額外的過濾選擇性地阻擋在反饋係統中不需要的光子檢測器的前麵。在大多數情況下,所添加的過濾器也阻止近場光子的一小部分,導致信號電平降低。甲非光學的反饋方法是不受這種性質的問題,是一個主要的原因,如音叉技術(如下所述)的方法已成為越來越受歡迎。

壓電石英音叉首次被引入用於掃描探針顯微鏡,掃描近場聲顯微鏡。後來,音叉被納入NSOM作為廉價和簡單的,非光激發和檢測設備的遠程控製功能。石英晶體具有這樣的性質,當置於壓力下時,產生一個電場,相反,當施加電場時的尺寸變化。這個屬性被稱為壓電晶體組成的分子,缺乏對稱中心和飛機時發生。石英晶體適合於使用在精密振蕩器(數字時鍾)和高度選擇性的濾波器是成批生產的,在巨大的數量,使它們相對便宜的。當石英音叉用於調節在反饋回路中,非常高的機械品質因數,Q(高達約10000),和相應的高增益,為係統提供了高靈敏度小的力,通常的順序的piconewton。

用於剪切力前端反饋音叉型方法的基本結構與由一個石英晶體,這是在音叉的共振頻率振動的音叉連接到一個臂的單模光纖。音叉的等效電路是一個RLC串聯諧振器與包裝電容並聯。最常見的音叉的共振頻率為32768赫茲(赫茲),但這些設備是可用的共振範圍從10千赫至幾十兆赫。

的單模光纖,路由到的近場光學頭,物理地連接,這反過來又可以驅動內部(電)或由外部叉剛性連接抖動壓電晶體音叉。音叉振蕩的模式取決於激勵手段。如果前叉(直通)電驅動,臂在相反的方向上振動,而外部的機械激勵產生振蕩,其中兩個音叉臂在同一方向移動。圖5給出的示意性配置用附屬的纖維的剪切力檢測的石英音叉。獲取在叉上的電極的壓電電勢,然後擴增約100(使用一個儀表放大器)增益,以產生一個信號的量級為幾十毫伏。然後,該信號被饋送到一個鎖相放大器和參考振蕩音叉的驅動信號。的輸出由鎖相放大器(振幅,相位,或如x或y的信號的振幅和相位的組合),然後比較用戶指定的控製回路中的參考信號的反饋,在需要維持探頭標本。

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如圖6中所示,例如,所產生的與附近場光學纖維32.7千赫音叉的共振曲線。叉響應測量席卷從31千赫至33千赫的頻率和同時測量的信號的幅度和相位。纖維附著後的諧振頻率的變化和從約20,000至小於1000 Q因子的諧振下降。Q被定義為:

F R /ΔF

相關(r)是頻率的最大振幅和ΔF的共振峰的寬度,上麵的點的振幅相當於除以2的平方根(稱為根均方)的峰值幅度,或約70.7%的峰值幅度。

已導致其在光學技術尖端調控有利於增加音叉方法有幾個優點。由於檢測光的前端運動,有沒有額外的雜散光被引入的開口附近的近場光學顯微鏡的信號檢測,可能會幹擾的風險。此外,音叉係統並不需要繁瑣的對應程序的一個單獨的外部激光源,和相關聯的聚焦光學元件。由於緊湊性和相對的易用性,音叉方法本身需要遠程操作的應用程序中,如那些在真空係統或環境控製腔采用。

輕敲模式反饋

輕敲模式反饋是另一種流行的方法為針尖對標本遠程控製,並使用幾種不同類型的探頭來實現。一個有用的設計包括一個修改後的AFM懸臂和透明的前端,通常由氮化矽製成,並塗有金屬的探頭端部的底部(近場探頭在隨附的一節討論和說明)。輕敲模式下的方法最常用的探針是具有接近90度的彎曲的前端孔徑接近傳統的光纖探頭。彎曲光纖近場光學探針的表示在圖7中。

輕敲模式下的近場圖像的分辨率被定義,不僅由半徑的前端也由垂直於試樣表麵發生振蕩的振幅。這是由於急性針尖對試樣分離的光信號的靈敏度。為了維持高的近場分辨率,它是必要的,以保持一個小的振幅相對的前端的孔,或補償較大的振動。一種機製,已被證明,提高分辨率是同步收集到的近場光學信號與小費振蕩周期。在相當大的尖端振幅調製的光耦合到探頭,調整相位,小費是其最接近點時,隻照亮標本,可以保持高分辨率成像。

彎曲的光學探針在應用程序中有幾個缺點,其中每一個可以歸因於彎曲本身。一個顯著的問題是探針製造難度增加,尤其是當施加到頂端的金屬塗層。另外一個缺點是增加光損失的發生是由於在該探頭的彎曲。這種損失吞吐效率是顯著的,和一些公布的測量表明,彎曲的光纖探頭至少一個數量級的效率低於傳統的直路的光纖探頭。在某些操作模式的近場光學,強度損失的是不是一個嚴重的限製,因為額外的光可以被耦合到光纖補償,假設提供足夠的激光功率。光耦合的增加,是因為光的損失,以及增加的加熱,在纖維的彎曲發生在一個選項,而不是在一個

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中彎曲探針的反饋模式,探頭擺動垂直於試樣表麵的類似輕敲模式原子力顯微鏡。可以監視振蕩的振幅,或者用機械方法,如石英音叉用壓電裝置,或光反射的激光從頂麵的前端懸臂。該探針在其本征模振蕩被激發試樣的前端的距離的記錄,並作為反饋信號動態。探針的前端,防止附著由於振蕩,它提供了很短的接觸時間,反向驅動力的懸臂彎曲試樣。這種反饋方法的成功依賴的前端振動產生的共振增強的前端檢體的距離控製的敏感性增加。的鋒利度和靈敏度的前端的振動,其特征在於通過在懸臂Q(類似於在剪切力振蕩的測量Q)。的探針的Q值基本上降低的粘度的液體的環境中,這通常是伴隨著一個大的諧振頻率偏移。

輕敲模式下的剪切力模式的一個優點是可以獲取與納米地形圖像相對容易,甚至當試樣和探頭都浸在水或其它流體介質。各種各樣的研究小組已使用攻絲模反饋的單分子檢測,生物係統的研究,並用於成像在水中,在其他應用中。當振蕩尖端接近試樣表麵,音叉振蕩振幅減少,或在光反饋信號的觀察。這種阻尼的起源仍然沒有完全理解,然而,幾種不同的機製已經被提出,包括毛細管力,範德W

阻尼力的作用下對探頭端部可以概念化設想一層薄薄的覆蓋在試樣表麵的水(這實際上是的情況下,如果試樣是在環境條件下)。筆尖的時候,降低到地表水的薄層,一拖力施加到探頭端部,因為它進入水。增加的阻力減小的端部的光纖探針的振幅,和轉移的纖維的共振頻率。這些變化都減小音叉(非光學方法)的輸出信號。當減少信號下降到低於閾值的參考信號,在前端被解釋為“從事”的反饋控製係統調節的高度以上的試樣(基於用戶指定的參考信號)的前端。

 

近場掃描光學顯微鏡的使用持續增長,尤其是對感興趣,獲得盡可能高的光學分辨率的顯微鏡。然而,近場光學顯微鏡並不限於服務作為一個單獨的成像/顯微鏡儀器,它也可以用於納米尺度上的試樣的操作,製造,加工。種類繁多的近場光學成像領域之外的應用正在不斷發展,包括精密激光加工,納米尺度的光學光刻技術,以及本地化版本籠化合物。

近場光學顯微鏡的局限性包括:

  • 幾乎為零的工作距離和一個非常小的景深。
  • 極長的高分辨率圖像或大麵積標本的掃描時間。
  • 非常低的透射率小於入射光波長的小孔。
  • 隻有在試樣的表麵的功能進行研究。
  • 光纖探頭是有些問題的成像軟質材料,由於其高的彈簧常數,特別是在剪切力模式。

近場光學顯微鏡是目前仍處於起步階段,需要更多的研究對發展改進的探測器製造技術和更靈敏的反饋機製。未來的技術可能實際上休息細化Apertureless近場方法(包括幹涉),其中有些已經達到1納米的順序決議。然而,大多數近場光學儀器的典型分辨率約為50納米,這是隻有5或6次,比通過掃描共聚焦顯微鏡的。這種溫和的增長分辨率都相當成立近場光學儀器,進行適當的成像所需的時間成本和操作的複雜性。近場光學顯微鏡的最大優勢可能在於它能夠提供高空間分辨率的光學和光譜數據,同時結合地形信息。結合原子力測量和近場掃描光學顯微鏡已被證明是一個非常強大的方法在某些領域的研究,提供了新的信息的各種標本類型是根本無法實現遠場顯微鏡。



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